2025年前上海要突破光刻设备 芯片设计进入3nm工艺内

作为国内半导体行业的重镇,日前上海方面印发了《上海市先进制造业发展“十四五”规划》的通知,其中提到要着力发展三大先导产业(集成电路、生物医药、人工智能)。

在集成电路方面,通知要求集成电路产业以自主创新、规模发展为重点,提升芯片设计、制造封测、装备材料全产业链能级。

通知也针对芯片设计、制造封测及装备材料三个领域提出了明确的要求。

其中芯片设计方面,应加快突破面向云计算、数据中心、新一代通信、智能网联汽车、人工智能、物联网等领域的高端处理器芯片、存储器芯片、微处理器芯片、图像处理器芯片、现场可编程逻辑门阵列芯片(FPGA)、5G核心芯片等,推动骨干企业芯片设计能力进入3nm及以下,打造国家级电子设计自动化(EDA)平台,并能支持新型指令集、关键核心IP等形成市场竞争力。

制造封测方面,通知要求加快先进工艺的研发,能支持12英寸先进工艺生产线建设和特色工艺产线建设,争取产能倍增,从而加快第三代化合物半导体的发展;发展晶圆级封装、2.5D/3D封装、柔性基板封装、系统封装等先进封装技术。

针对半导体设备及材料,通知要求加强装备材料创新发展,突破光刻设备、刻蚀设备、薄膜设备、离子注入设备、湿法设备、检测设备等集成电路前道核心工艺设备;提升12英寸硅片、高端掩膜板、光刻胶、湿化学品、电子特气等基础材料产能和技术水平,强化本地配套能力。

此外,充分发挥张江实验室、国家集成电路创新中心等“1+4”创新体系的引领作用,加强前瞻性、颠覆性技术研发和布局,联合长三角开展产业链协作。加快建设上海集成电路设计产业园、东方芯港、电子化学品专区等特色产业园区载体,引进建设一批重大项目。

最终到2025年,上海基本建成具备自主发展能力、具有全球影响力的集成电路创新高地。

2025年前上海要突破光刻设备 芯片设计进入3nm工艺内

米粒
  • 本文由 发表于 2021年7月15日16:13:34
  • 转载请务必保留本文链接:https://www.miliol.org/97780.html
科技

毒性堪比眼镜蛇 乱摸水母会出人命!

抖音之前很流行的“水母手势舞”你会吗?张开手掌再捏住手指向后拉,收回手指,张开手指,你就可以得到一只简略版的水母~ 然而不是所有的水母都这般可爱无害,比如今天的主角&mdash...
匿名

发表评论

匿名网友 填写信息

:?: :razz: :sad: :evil: :!: :smile: :oops: :grin: :eek: :shock: :???: :cool: :lol: :mad: :twisted: :roll: :wink: :idea: :arrow: :neutral: :cry: :mrgreen: