科技

EUV光刻的“致命弱点”

几家供应商正在推出下一代检测系统和软件,以定位极紫外(EUV)光刻机工艺引起的芯片缺陷问题。 每种缺陷检测技术都涉及到各种权衡,但由于EUV引起的随机缺陷最终会影响芯片的性能,在晶圆厂里使用一项或多项...
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